19 º Congreso Internacional sobre adicciones: "Dual trastornos y comorbilidad asociaron a uso de sustancias"
En los últimos años se ha convertido en evidente que para comprender mejor el fenómeno del uso de sustancias psicoactivas y sus consecuencias para la salud física y mental, un enfoque multidimensional es necesario, ya que hay muchos y variados los aspectos involucrados en el consumo de sustancias psicoactivas y el desarrollo de las adicciones. Entre las personas con un trastorno de uso de sustancia hay una alta prevalencia de comorbilidad psiquiátrica, patología dual, que implica importantes dificultades, tales como los inherentes a la evaluación y tratamiento.
El concepto de Patología Dual es muy generalizado en el campo de las adicciones y debido a su complejidad, tiene un impacto importante en la oferta de opciones de tratamiento para tratar eficazmente la enfermedad.
Por esta razón este año, el 19 Congreso Internacional de adicciones "Dual trastornos y comorbilidad asociaron a uso de sustancias" se celebrará conjuntamente con la Asociación Mundial de trastornos duales (WADD).
Este evento académico revisará las investigaciones más recientes en el campo, con el fin de vincular a los investigadores, grupos y sectores de diferentes países hacia una mejor comprensión de lo que significa Patología Dual y sus consecuencias, con el fin de atender oportuna, favorece el bienestar de la población y contribuye a la mejora de la calidad de vida de los pacientes, sus familias y su entorno en general.
Formación continuada de los profesionales de la salud encargado de cuidar a personas en riesgo o que son adictas deben incluir temas de vanguardia. Así que, como en años anteriores, las conferencias y mesas de trabajo que componen este Congreso, tendrá expertos en la materia, tanto a nivel nacional como internacional. Además, se celebrará el 3 º Taller Internacional de ISSUP para la certificación en prevención y tratamiento por especialistas de la sociedad internacional de profesionales de utilización de sustancia (ISSUP).